設備二維材料制備CVD系統特點：此款CVD系統前端配有可加熱到400℃的預加熱器，輔助二維材料蒸發，后端為雙溫區管式爐，溫度控制精確，操作簡便。并配質量流量計系統和真空系統，可以準確的反應腔體內部的氣體壓力和氣體流量，對于做低壓CVD實驗非常實用，重復性好。
二維材料制備CVD系統
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硫粉預熱器 |
工作溫度：400℃ z高溫度：1200℃ z快升溫速率：≤30℃/min 推薦升溫速率：10℃/min 控溫方式：智能化30段可編程控制 工作電壓：AC220V 額定功率：800W 控溫精度：±1℃ 加熱元件：電阻絲 |
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加熱區參數
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額定功率：5kw z高溫度：1200℃ 工作溫度：1100℃ z大升降溫速率：≤30℃/min 爐管尺寸：高純度石英管Φ25Φ50Φ60Φ80Φ100x1650mm (管徑可選) 加熱區長度：200+200mm 恒溫區長度：290mm 控溫方式：模糊PID控制和自整定調節，智能化30段可編程控制，具有超溫和斷偶報警功能。 標準配件：石英管1支，莫來石管堵2對，不銹鋼法蘭1套，硅膠密封圈2套，高溫手套1副，坩堝鉤1支； 尺寸：約 550×380×600 mm（爐子） 約：1700×380×620 mm（爐子+滑軌） 可選配單溫區、雙溫區、三溫區等加熱區。 |
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