在集成電路產業中，反向工程的方法已成為世界各國廠商普遍采用的了解他人產品信息，進而開發出兼容或更為先進產品的一種手段。這對產業發展和技術進步是十分必要的，如果實施反向工程，不是單純的為復制他人布圖設計以便仿制他人產品，而是通過解剖、分析，了解他人產品的功能、參數特征，以便設計出與之兼容的產品，或者在他人產品的基礎上做進一步改進，從而制造出在技術上更加先進的集成電路，則應當認為是合理合法的。

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什么是反向工程條款？《保護條例》第23條規定：下列行為可以不經布圖設計權利人許可，不向其支付報酬：(一)為個人目的或者單純為評價、分析、研究、教學等目的而復制受保護的布圖設計的；(二)在依據前項評價、分析受保護的布圖設計的基礎上，創作出具有獨創性的布圖設計的。這就是集成電路布圖設計保護中的“反向工程”條款。

事實上，允許在一定條件下實施反向工程的規定，更類似于專利法中關于改進發明的規定。作為工業產權保護對象之一的專利是對全社會公開的。專利法設置了專門的公開渠道，是為了便于他人在現有技術的基礎上完成更新更優的發明創造。

如果也像專利法一樣規定專門的公開程序將布圖設計公之于世，權利人將難以控制其布圖設計。權利人不僅會在產品的成本方面喪失優勢，甚至會連搶占市場的時間優勢都喪失殆盡。

因此，在布圖設計保護制度中不宜專門設立公開渠道。如圖2所示為國家知識產權局查詢集成電路布圖設計公告的唯一界面，該界面不提供針對具體的布圖設計登記號、布圖設計名稱、權利人姓名或名稱、布圖設計申請日等檢索布圖設計的選項，僅提供每期集成電路公告的內容。

保護布圖設計的終極目的畢竟還是為了促進技術進步，因此還應當照顧公共利益，以便他人在一定程度上可以借鑒現有的先進技術。在限制條件下的反向工程便是起到與專利法中公開程序等效的作用，這是對公眾利益的一個補償。知識產權法應當允許有關當事人為分析、研究集成電路的技術、特性目的而復制他人布圖設計的行為，但并不允許將復制的布圖設計直接再投入集成電路的生產。這是考慮到現有技術發展水平、平衡權利人和公眾利益的結果。

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