電子光學行業(yè)如大規(guī)模集成電路（LSI）、超大規(guī)模集成電路（VLSI）等微電子（IC）工廠；液晶顯示器（LCD）、彩色薄膜液晶顯示器（TFT-LCD）、等離子顯示器（PDP）以及發(fā)光二極管（LED）、有機電致發(fā)光顯示器（OLED）、高分子有機電致發(fā)光顯示器（PLED）等光電子工廠都離不開潔凈的生產環(huán)境。生產所要求的環(huán)境不僅僅有：建筑圍護、結構、空氣、水、氣體以及溶劑等原材料，而且還有聲、光、電、磁、振等各種環(huán)境。例如：建筑的形式和層高、結構的承重、圍護結構的裝修材料；環(huán)境空氣的潔凈度、溫、濕度、壓力梯度、空氣中對工藝有害的化學分子；水和氣體的純度、粒子濃度、重金屬的含量以及環(huán)境的噪聲、照度、靜電、電磁屏蔽、微振等等。

● 凈：電子光學行業(yè)，尤其是微電子（IC）前工序和光電子（TFT-LCD）前工序的潔凈室對環(huán)境潔凈度的要求越來越凈。例如，12吋園片超大規(guī)模集成電路前工序光刻間的潔凈度要求高達1級（0.1?m）也就是每立方英尺空氣中≥0.1 ?m的粒子數(shù)不能超過1顆,相當于ISO 1級。特別重要的是它對環(huán)境空氣提出了去除分子污染（SO2 , Nox , VOC ,NH3等）的要求。

 ● 精：電子行業(yè)生產工藝對環(huán)境空氣溫、濕度的控制精度要求越來越精。還以上述微電子的光刻間為例：其溫度精度為±0.1℃，相對濕度的精度為±3%。

 ● 純：大規(guī)模集成電路前工序對生產用的高純水、高純氣體以及高純溶劑的純度要求越來越純。例如：對高純水而言，不僅對其電阻率有要求，而且對高純水中所含粒子、細菌、重金屬以及其他元素的離子成份都有嚴格的要求，隨著生產工藝的發(fā)展，對其純度的要求也越來越高。可謂純之又純。

 ● 嚴：電子工業(yè)生產不僅對環(huán)境的潔凈度，溫、濕度有嚴格的要求，同時對環(huán)境的聲（噪聲）、光（照度）、電（靜電）、磁（電磁場屏蔽）、振（微振）等都有嚴格的要求。尤其微電子生產，對環(huán)境的分子級污染提出了新的嚴格的要求。分子污染是指環(huán)境空氣中要嚴格控制例如鈉（Na）元素、碳（COx）元素、硫（SOx）元素、（NOx）元素等對半導體工藝有害的元素。因此在處理空氣時還要用淋水（淋自來水、淋純凈水）來吸收室外空氣中的有害分子成份和用化學過濾器來吸附新風中的有害分子成份。